低溫恒溫槽黑體爐的作用是什麽，都有哪些用途

低溫恒溫槽是自帶製冷和加熱的高精度恒溫源， 可在機內(nei) 水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與(yu) 其他設備相連，作為(wei) 恒溫源配套使用。泛用於(yu) 石油、化工、電子儀(yi) 表、物理、化學、生物工程、醫藥衛生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業(ye) 質檢及生產(chan) 部門，為(wei) 用戶工作時提供一個(ge) 熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產(chan) 的產(chan) 品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為(wei) 直接加熱或製冷和輔助加熱或製冷的熱源或冷源。
那麽(me) 低溫恒溫槽配套使用的黑體(ti) 爐作用是什麽(me) 呢？
黑體(ti) 爐指能全部吸收外部的輻射能量，同時能全部輻射出自身全部能量的物體(ti) ，紅外熱像儀(yi) 溫度標定與(yu) 檢測設備。
黑體(ti) 的主要功能是產(chan) 生一定溫度下的標準輻射。因此在溫度計量中主要用於(yu) 檢定各種輻射溫度計，如光學高溫計、紅外溫度計、紅外熱像儀(yi) 等。
隨著科學技術的發展，黑體(ti) 的用途已經不局限於(yu) 在溫度計量方麵的應用。在光學方麵，已經普遍采用黑體(ti) 作為(wei) 標準輻射源和標準背景光源。在測量領域裏，黑體(ti) 已經用於(yu) 測量材料的光譜發射、吸收和反射特性。在高能物理的研究中，黑體(ti) 已經用作為(wei) 產(chan) 生中子源。
不同的用途對黑體(ti) 的要求是不一樣的。在溫度計量領域，主要是利用黑體(ti) 輻射和溫度的對應關(guan) 係，因此要求黑體(ti) 的發射率越高越好。要求黑體(ti) 的輻射能量按照光譜分布(也就是黑體(ti) 光譜輻射能量、也稱為(wei) 單色能量)都能符合普朗克定律，這樣我們(men) 在檢定或校準輻射溫度計時，以黑體(ti) 的溫度(或標準輻射溫度計)的示值，來修正輻射溫度計的偏差。因此在選擇黑體(ti) 時通常是選擇發射率較高的腔式黑體(ti) ，同時也要注意黑體(ti) 腔口直徑，溫度均勻性和輻射溫度不確定度。
在光學應用中，通常要求輻射源的輻射麵積較大，但是溫度不高，隻關(guan) 注輻射麵的溫度均勻性而不一定關(guan) 注輻射能量與(yu) 溫度對應的準確性，因此選擇麵源黑體(ti) 較多。但隨著科學技術的發展，現在光學應用中也已經用到大口徑的高溫黑體(ti) ，但對發射率的要求可以低一點，達到0.98以上即可，像某些腔些黑體(ti) 的直徑可以達到65mm，發射率達到了0.995，也非常適合做紅外的校驗。
對於(yu) 測試和研究中所采用的黑體(ti) ，是根據需要設計，種類繁多。用於(yu) 材料光譜發射率測量的黑體(ti) ，是一個(ge) 界於(yu) 腔式黑體(ti) 和麵源黑體(ti) 之間的黑體(ti) ，發射麵隻有Φ10mm。用於(yu) 輻射溫度儀(yi) 器中定點校準用的黑體(ti) ，是一個(ge) 定溫度的輻射能量很穩定的光源。在軍(jun) 工係統使用的黑體(ti) 中小隻有小手指大，因此稱為(wei) 指狀黑體(ti) ;為(wei) 了模擬目標，在一個(ge) 平麵上分隔成多個(ge) 不同溫度區域的麵源黑體(ti) 稱為(wei) 目標模擬器。等等。